高纯三氯化硼 高纯三氯化硼​用作硅和锗外延、扩散和离子注入过程的P型掺杂源。用于光导纤维、药品和耐热涂料的制造。还可用作铝的气相刻蚀剂。制造IMDRAM需用三氯化硼，可提高集成电路产率。